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實用科研級正置金相顯微鏡選型指南,速看
發布時間:2021-01-22   點擊次數:276次
   科研級正置金相顯微鏡廣泛地應用在工礦企業、教學、科研金相分析、半導體硅晶片檢測等領域。用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構;原材料的檢驗或對材料處理后金相組織的研究分析;觀察金屬、硅片等反射標本的表面結構和芯片檢查;也可觀察具有一定反射率的透明標本的表面結構。
  1.了解正置與倒置的主要區別:
  倒置金相顯微鏡:主要適用對各種金屬和合金材料的組織結構、鑄件質量以及熱處理后相位組織進行研究分析工作,是金屬學研究的必備儀器,由于試樣的觀察面倒置不受高度限制,在制備試樣時只要一個觀察面平整即可。
  科研級正置金相顯微鏡具有和倒置同樣的基本功能,因此更廣泛的應用于透明,半透明或不透明物質。大于3微米小于20微米觀察目標,比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結構、痕跡,都能有很好的成像效果。
  2.金相顯微鏡物鏡有限遠光學系統和無限遠光學系統的區別?
  無限遠光學校正系統:無限遠校正光學系統中,由標本通過物鏡的光線不在物鏡成像,而是作為無限遠的平行光束進入成像透鏡,由成像透鏡形成中間像。
  無限遠光學系統就是在物鏡與中間像平面之間裝上一個結像透鏡,使中間光線轉為平行光束,理論上光束可延伸到無限遠,不受機械筒長的限制,因此無限遠光學系統的中間可附加多個光學附件,并不影響光學成像質量。
  有限遠光學校正系統:有限遠校正光學系統中,由物鏡單獨形成中間像。
  有限遠是指固定有一定鏡筒長度的光學系統,從物鏡的裝卸端到目鏡插入筒的一端(即目鏡接口上端面)的距離。
  3.科研級正置金相顯微鏡明場/暗場區別?
  什么是明場:是通過直射光線將物體照亮之后,將反射光直接進入成像系統,然后使物體成像。所成得像則為彩色的圖像,不過對于一些微小的裂紋跟劃傷等則看不清晰。
  什么是暗場:傾斜入射的光線打在檢驗區域的旁邊,完全不進入成像系統,能進入成像系統的只是被受照物體表面的微粒散射或衍射的光線,成像後得到的是這些亮的微粒像,成像為黑白圖像。
  可以更清楚看到細小的劃傷跟裂紋。
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